产品名称:东莞PVD涂层加工
PVD物理气相沉积具有金属汽化的特点,与不同的气体反应形成一种薄膜涂层。在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。PVD 涂层加工温度属于超低温工艺,对工件尺寸影响非常小,不会影响工件的精度。
PVD涂层适合对绝大多数 模具和部件进行沉积涂层,应用领域包括切削 、成型模具、耐磨部件、汽车零部件、医疗装置和装饰产品等。其材料可包括钢料,硬质合金和经电镀的塑料等。
涂层类型有: OVINO®TiCN、OVINO®ALCrTiN、OVINO®TiALN、OVINO®CrN(MP)、OVINO®CrALN、OVINO®ZrN、A-C:H/DLC/TAC etc.
涂层厚度一般为3~6um ,但在有些情况下,涂层可薄至0.5um ,厚至10um。
涂层种类和厚度决定工艺时间,一般工艺时间为8~12小时。
二、东莞PVD涂层加工优点:
1、适合多种材质,涂层多样化。
2、延长工件使用寿命,改善品质,提高生产效率。
3、较低的涂层温度,零件尺寸变形小。
4、非常环保,对工艺环境无污染。
三、东莞PVD涂层加工技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%,并且可以过滤掉大颗粒, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
磁控溅射:在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
离子束DLC:碳氢气体在离子源中被离化成等离子体,在电磁场的共同作用下,离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上,沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压,因而离子能量更大,使得薄膜与基片结合力很好;离子电流更大,使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积超薄及多层结构,工艺控制精度可达几个埃,并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至最小。